知道光刻机故事的人都清楚，在ASML之前，日本的尼康、佳能才是老大哥。
不过在ARF光刻机时，也就是采用193nm的干式光刻机的时候，发生了分歧，日系厂商认为要继续研发使用波长更短的光源比如165nm，来提高光刻分辨率。
但是165nm波长的光线非常不稳定，研究了几年，大家都没有进展。
这时台积电的林本坚站了出来，表示以前的光刻机是用空气做介质的。如果采用水为介质，利用水的折射，采用193nm的光源，在水的折射下可以等效于134nm，比165nm的光线分辨率更好，还跳过了165nm这个难搞的光源。
但尼康、佳能不信，打算一条道走到黑，继续研究165nm光源，不用水为介质。
而ASML还是小厂，就打算搏一搏，说不定单车变摩托了呢？于是ASML与台积电合作，制造以水为介质的浸润式光刻机。
这一搏就成了ASML的翻身之作，第一台浸润式光刻机ARFi制造出来，采用193nm波长，但等效于134nm，马上投入台积电的生产线上，效果非常好。
而佳能、尼康不认输，坚持不造这种以水为介质的光刻机，于是市场慢慢的全被ASML抢走了，后来ASML更是造出了EUV光刻机，独家垄断了光源等等。导致尼康、佳能一蹶不振，再也翻不了身。
后来尼康认错，也开始接受现实，制造浸润式光刻机，但佳能死都不认错，坚持不造浸润式光刻机。如今除了ASML，日本尼康也能够量产用于生产7nm及以下制程的浸润式光刻机，也就是DUV中的ARFI光刻机。
